貴金屬執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
常用珠寶首飾相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)我國(guó)標(biāo)準(zhǔn)分為國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)、地方標(biāo)準(zhǔn)和企業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，又分為強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)和推薦性標(biāo)準(zhǔn)，標(biāo)準(zhǔn)編碼的組成為：標(biāo)準(zhǔn)代號(hào)+標(biāo)準(zhǔn)順序號(hào)+批準(zhǔn)年號(hào)。
| 國(guó)家、行業(yè)、地方標(biāo)準(zhǔn)代號(hào) | ||
| 標(biāo)準(zhǔn)層次 | 強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn) | 推薦性標(biāo)準(zhǔn) |
| 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn) | GB | GB/T |
| 輕工行業(yè)標(biāo)準(zhǔn) | QB | QB/T |
| 地方標(biāo)準(zhǔn) | DB | DB/T |
| 企業(yè)標(biāo)準(zhǔn) | Q/企業(yè)代號(hào) | |
| 貴金屬執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn) | |||
| 標(biāo)準(zhǔn)號(hào) | 名稱 | 適用范圍 | 實(shí)施日期 |
| GB 11887-2012 | 首飾 貴金屬純度的規(guī)定及命名方法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾中貴金屬的純度范圍、印記、測(cè)定方法和貴金屬首飾的命名方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾行業(yè)和國(guó)內(nèi)生產(chǎn)及銷售的貴金屬首飾。貴金屬擺件參照?qǐng)?zhí)行。 |
2013-05-01 |
| GB/T18043-2013 | 貴金屬首飾含量無(wú)損檢驗(yàn)方法-X射線熒光光譜法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線熒光光譜測(cè)定首飾中貴金屬含量的方法及要求。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾和其他工藝品的定性分析及其中的貴金屬（金、銀、鉑、鈀）含量的篩選檢測(cè)。 |
2014-03-01 |
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QB/T 2062-2006 |
貴金屬飾品 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬飾品（以下簡(jiǎn)稱飾品）的分類、要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于金、銀、鉑、鈀等貴金屬及其合金制成的首飾，也適用于貴金屬及其合金制成的工藝品及擺件。 |
2006-12-01 |
| DB44/495-2008 |
貴金屬飾品 標(biāo)注方法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬及貴金屬鑲嵌飾品（包括首飾和工藝品）的產(chǎn)品標(biāo)識(shí)的基本要求和標(biāo)注方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于貴金屬及貴金屬鑲嵌飾品標(biāo)識(shí)標(biāo)注。 |
2008-10-01 |
| GB/T 28020-2011 |
飾品 有害元素的測(cè)定 X射線熒光光譜法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的X射線熒光光譜檢測(cè)方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種材質(zhì)的飾品（珠寶玉石除外）表層中有害元素的檢測(cè)。 |
2012-02-01 |
| GB/T28021-2011 |
飾品 有害元素的測(cè)定 光譜法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的含量及溶出量的光譜測(cè)定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于飾品中有害元素的含量及溶出量的測(cè)定。 | 2012-02-01 |
| GB28480-2012 |
飾品 有害元素限量的規(guī)定 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了飾品中有害元素的種類及其限量。本標(biāo)準(zhǔn)適用于各種材質(zhì)的飾品(玉石除外) | 2013-05-01 |
| GB/T19719-2005 |
首飾 鎳釋放量的測(cè)定 光譜法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾中鎳的釋放量的測(cè)試方法，以測(cè)定該樣品鎳的釋放量是否大于0.5μg/(cm²·week)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于GB11887-2002中4.3.2所規(guī)定的含鎳首飾鎳釋放量的測(cè)試，也適用于長(zhǎng)期接觸人體皮膚的制品。 | 2005-09-01 |
| QB/T 1690-2004 | 貴金屬飾品質(zhì)量測(cè)量允差的規(guī)定 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了金、銀、鉑、鈀飾品及材料質(zhì)量測(cè)量允差的要求、試驗(yàn)方法和標(biāo)志。本標(biāo)準(zhǔn)適用于以質(zhì)量結(jié)算的金、銀、鉑、鈀飾品及材料的貿(mào)易。 | 2005-01-01 |
| GB/T1423-1996 | 貴金屬及其合金密度的測(cè)試方法 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬及其合金材料室溫密度的測(cè)定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于貴金屬及其合金材料室溫密度的測(cè)定。其他金屬及合金材料以及部分非金屬固體材料亦可參照使用。本標(biāo)準(zhǔn)不適用于粉末材料及多孔材料密度的測(cè)定。 | 1997-04-01 |
| QB1131-2005 |
首飾 金覆蓋層厚度的規(guī)定 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾制品金覆蓋層厚度的術(shù)語(yǔ)和定義、要求、檢驗(yàn)方法和標(biāo)識(shí)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于非金基體的首飾制品。 | 2006-05-01 |
| QB1132-2005 |
首飾 銀覆蓋層厚度的規(guī)定 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了首飾制品銀覆蓋層厚度的術(shù)語(yǔ)和定義、要求、檢驗(yàn)方法和標(biāo)識(shí)。本標(biāo)準(zhǔn)適用于非銀基體的首飾制品。 | 2006-05-01 |
| QB/T1135-2006 |
首飾 金、銀覆蓋層厚度的測(cè)定 X射線熒光光譜法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用X射線熒光光譜法測(cè)量首飾金、銀覆蓋層厚度的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于首飾及其它工藝品中金、銀等覆蓋層厚度的測(cè)定(覆蓋層與基體為非相同材質(zhì))。注：本方法測(cè)定的覆蓋層厚度相當(dāng)于足金或足銀的厚度，可根據(jù)實(shí)際金、銀覆蓋層含量進(jìn)行折算。 | 2006-12-01 |
| QB/T2997-2008 | 貴金屬覆蓋層飾品 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了貴金屬覆蓋層飾品的術(shù)語(yǔ)和定義、要求、試驗(yàn)方法標(biāo)志、包裝、運(yùn)輸、貯存。本標(biāo)準(zhǔn)適用于除貴金屬(金、銀、鉑、鈀、銠等)以外的各類金屬為基材制作的金覆蓋層系列、銀覆蓋層系列和銠覆蓋層系列等飾品。以非金屬為基材的貴金屬覆蓋層飾品可參照本標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行。 | 2008-12-01 |
| GB/T17832-2008 |
銀合金首飾 銀含量的測(cè)定 溴化鉀容量法 (電位滴定法) |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用溴化鉀容量法(電位滴定法)測(cè)定銀合金首飾中的銀含量。本標(biāo)準(zhǔn)適用于銀含量800‰~990‰的銀合金首飾、工藝品及其材料。本標(biāo)準(zhǔn)被GB11887指定為銀首飾中銀含量測(cè)定的仲裁方法。 注：銀合金中可以含有銅、鋅、鎘和鈀，這些元素除鈀必須在滴定前先沉淀分離外，其余元素的存在不會(huì)干擾本測(cè)定方法。 |
2009-07-01 |
| GB/T 9288-2006 |
金合金首飾 金含量的測(cè)定灰吹法（火試金法） |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用灰吹法（火試金法）測(cè)定金合金首飾中含金量的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于金含量在333.0‰~999.5‰的各種金和K金首飾（不含鉑、銠等不溶于硝酸的成分）的金含量的測(cè)定。 本標(biāo)準(zhǔn)被GB 11887指定為金合金首飾中金含量分析的仲裁方法。 |
2006-10-01 |
| GB/T601-2002 | 化學(xué)試劑標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液的制備 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了化學(xué)試劑標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液的配制和標(biāo)定方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于制備準(zhǔn)確濃度的標(biāo)準(zhǔn)滴定溶液，以供滴定法測(cè)定化學(xué)試劑的純度及雜質(zhì)含量，也可供其他行業(yè)選用。 | 2003-04-01 |
| GB/T602-2002 | 化學(xué)試劑 雜質(zhì)測(cè)定用標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了化學(xué)試劑雜質(zhì)測(cè)定用標(biāo)準(zhǔn)溶液的制備方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于制備單位容積內(nèi)含有準(zhǔn)確數(shù)量物質(zhì)(元素、離子或分子)的溶液，適用于化學(xué)試劑中雜質(zhì)的測(cè)定，也可供其他行業(yè)選用。 | 2003-04-01 |
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GB/T603-2002 |
化學(xué)試劑 試驗(yàn)方法中所用制劑及制品的制備 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了化學(xué)試劑試驗(yàn)方法中所用制劑及制品的制備方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于化學(xué)試劑分析中所需制劑及制品的制備，也可供其他行業(yè)選用。 | 2003-04-01 |
| GB/T6682-2008 | 分析實(shí)驗(yàn)室用水規(guī)格和試驗(yàn)方法 | 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了分析實(shí)驗(yàn)室用水的級(jí)別、規(guī)格、取樣及貯存、試驗(yàn)方法和試驗(yàn)報(bào)告。本標(biāo)準(zhǔn)適用于化學(xué)分析和無(wú)機(jī)痕量分析等試驗(yàn)用水?？筛鶕?jù)實(shí)際工作需要選用不同級(jí)別的水。 | 2008-11-01 |
| GB/T22554-2010 | 基于標(biāo)準(zhǔn)樣品的線性校準(zhǔn) |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了測(cè)量系統(tǒng)的校準(zhǔn)以及被校準(zhǔn)測(cè)量系統(tǒng)維持在統(tǒng)計(jì)受控狀態(tài)的通用原則。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用于以下目的的基本方法： a)測(cè)量變異性兩種假定下線性校準(zhǔn)函數(shù)的估計(jì)；b)校準(zhǔn)函數(shù)線性性和測(cè)量變異性假定的檢驗(yàn)；c)被測(cè)值基于校準(zhǔn)函數(shù)變化后的新未知量的估計(jì)。 本標(biāo)準(zhǔn)給出了校準(zhǔn)函數(shù)使用周期的控制方法，用于： a)檢驗(yàn)校準(zhǔn)函數(shù)何時(shí)需要更新； b)通過(guò)校準(zhǔn)函數(shù)變換后被測(cè)值的不確定度評(píng)估。 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了特定條件下基本方法的兩種替代方法，給出了基本方法和控制方法的示例。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于可獲取標(biāo)準(zhǔn)樣品的測(cè)量系統(tǒng)及假定線性校準(zhǔn)函數(shù)的測(cè)量系統(tǒng)，并提供了檢驗(yàn)線性假定的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)不適用于已知校準(zhǔn)函數(shù)呈非線性情況，除非使用8.3描述的“夾逼技術(shù)”。 本標(biāo)準(zhǔn)不區(qū)分各種類型的標(biāo)準(zhǔn)樣品，并認(rèn)為測(cè)量系統(tǒng)校準(zhǔn)所用標(biāo)準(zhǔn)樣品的接受值不存在誤差。 |
2011-04-01 |
| GB/T16597-1996 |
冶金產(chǎn)品分析方法 X射線熒光光譜法通則 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用X射線熒光光譜法進(jìn)行元素定量分析的一般事項(xiàng)，包括所涉及的常用術(shù)語(yǔ)、基本原理、儀器、樣品處理、定量分析等，供以X射線管作激發(fā)源的波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀使用。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于制(修)訂冶金產(chǎn)品的X射線熒光光譜法國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)或行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，其他標(biāo)準(zhǔn)也可參照使用。 |
1997-04-01 |
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GB/T 16921-2005 ISO3497：2000 |
金屬覆蓋層 覆蓋層厚度測(cè)量 X射線光譜方法 |
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了應(yīng)用X射線光譜方法測(cè)量金屬覆蓋層厚度的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)所用的測(cè)量方法基本屬于測(cè)定單位面積質(zhì)量的一種方法。如果已知覆蓋層材料的密度，則測(cè)量結(jié)果也可以用覆蓋層的線性厚度表示。 本測(cè)量方法可同時(shí)測(cè)量三層覆蓋層體系，或同時(shí)測(cè)量三層組分的厚度和成分。 給定覆蓋層材料的實(shí)際測(cè)量范圍主要取決于被分析的特征X射線熒光的能量以及所允許的測(cè)量不確定度，而且因所用的儀器設(shè)備和操作規(guī)程而不同。 |
2006-04-01 |
| QB/T2630.1-2004 |
金飾工藝畫 第1部分：金膜畫金層 |
本部分規(guī)定了金膜畫金層的要求和試驗(yàn)方法。 本部分適用于在金膜上印刷各種文字、圖案、書(shū)畫、照片等金膜畫的金層。 |
2005-01-01 |
| QB/T2630.2-2004 |
金飾工藝畫 第2部分：金箔畫金層 |
本部分規(guī)定了金箔畫金層的要求和試驗(yàn)方法。 本部分適用于金箔畫的生產(chǎn)和檢驗(yàn)。其他貼金膠片工藝品可參照?qǐng)?zhí)行。 |
2005-01-01 |
| QB/T2631.1-2004 |
金飾工藝畫 金層含金量與厚度測(cè)定 ICP光譜法 第1部分：金膜畫 |
本部分規(guī)定了金膜畫金層含金量與厚度的測(cè)定方法。 本部分適用于QB/T2630.1《金飾工藝畫 第1部分：金膜畫金層》所規(guī)定的金層含金量與厚度的測(cè)定，也適用于在金膜上印刷各種文字、圖案等制品金層的測(cè)試。 |
2005-01-01 |
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QB/T2631.2-2004 |
金飾工藝畫 金層含金量與厚度測(cè)定 ICP光譜法 第2部分：金箔畫 |
本部分規(guī)定了金箔畫金層含金量與厚度的測(cè)定方法。 本部分適用于QB/T2630.2《金飾工藝畫 第2部分：金箔畫金層》所規(guī)定的金層含金量與厚度的測(cè)定。其他貼金膠片工藝品測(cè)定可參照?qǐng)?zhí)行。 |
2005-01-01 |
| GB/T21198.4-2007 |
貴金屬合金首飾中貴金屬含量的測(cè)定 ICP光譜法 第4部分：999‰貴金屬合金首飾 貴金屬含量的測(cè)定 差減法 |
GB/T21198的本部分規(guī)定了通過(guò)測(cè)定999‰的貴金屬合金首飾中的雜質(zhì)元素含量來(lái)確定鉑合金首飾中的鉑含量，鈀合金首飾中的鈀含量，金合金首飾中的金含量的方法。 本部分適用于含量為999‰的貴金屬合金首飾。注：首飾中可含鉑、鈀、金、鉍、鎘、鈷、銅、鐵、銥、鎳、鉛、銠、釕、錫、鈦和鋅。 |
2008-07-01 |
| GB/T21198.5-2007 |
貴金屬合金首飾中貴金屬含量的測(cè)定 ICP光譜法 第5部分：999‰銀合金首飾 銀含量的測(cè)定 差減法 |
GB/T21198的部分規(guī)定了通過(guò)測(cè)定999‰銀合金首飾中的雜質(zhì)元素含量來(lái)確定銀含量的方法。 本部分適用于銀含量為999‰的銀合金首飾。注：首飾中可含鉑、鈀、金、鉍、鎘、鈷、銅、鐵、銥、鎳、鉛、銠、釕、錫、鈦和鋅。 |
2008-07-01 |
| GB/T21198.6-2007 |
貴金屬合金首飾中貴金屬含量的測(cè)定 ICP光譜法 第6部分：差減法 |
GB/T21198的本部分規(guī)定通過(guò)測(cè)定金、鉑、鈀合金首飾中雜質(zhì)元素含量來(lái)確定貴金屬含量的方法。 本部分適用于GB11887所確定的金、鉑、鈀首飾純度范圍，其中金含量為725‰~999‰，鉑量為800‰~999‰，鈀含量為800‰~999‰。注：首飾中可含鉑、金、鈀、銀、銅、鎳、鈷、鐵、鋅、鎘、釕、銠和銥等元素。 |
2008-07-01 |
